-
Промышленные абразивы
-
Абразивы покрытые
-
Абразивные материалы
-
Подшипник для роликовых шаров
-
Вставки инструмента карбида
-
Абразивные материалы из смолы
-
Абразивные материалы с металлическими связями
-
Измерительный прибор подшипника
-
Стеклянные абразивные материалы
-
Электроплавированные инструменты
-
Подшипники запасных частей
-
Алмазный слюн
-
Однокристаллический бриллиант
-
Приборы для измерения точности
-
Нитрирование соляной ванной
-
Потребительские материалы для полупроводников
-
МарияКачество очень хорошее и стабильное. Мы довольны командой, с которой работаем. Надеемся, что продолжим сотрудничать в бизнесе на долгие годы. - Спасибо. Спасибо. -
РИМСКИЙМы протестировали продукцию, она очень хороша.
CMP Полировка керамического блока Полупроводниковые расходные материалы ISO9001
| Выделить | Керамический блок CMP,Семипроводниковые расходные материалы из керамических блоков,Керамический блок полировки CMP |
||
|---|---|---|---|
Керамический блок изготавливается из высокой чистоты и сверхтонкого порошка алюминия путем высокотемпературного отверждения.
Основные особенности
Высокая чистота, меньше примесей, высокая твердость, износостойкость и коррозионная стойкость.
Высокая точность, небольшой коэффициент теплового расширения и хорошее сохранение точности, хорошая износостойкость и коррозионная стойкость.
Применение
Он в основном используется для разжижения, жесткой полировки и полировки CMP светодиодной подложки и полупроводниковых пластин ((сапфирная пластина, пластина SiC, силиконовая пластина, пластина германия, пластина GaAs, пластина GaN и т. д.).
Спецификация
![]()

